Senior Lithography Application Engineer

🕒 il y a 6 mois

🇳🇱 Pays-Bas – Télétravail

⏰ Temps Plein

🟠 Senior

💻 Ingénieur Applicatif

👻 Score fantôme 53%

Ce que ça veut dire : la probabilité que cette offre reste ouverte sans recrutement actif.Comment le lire : 60 % ou plus, on pense que c'est une offre fantôme. Un score plus bas est moins inquiétant.Comment on la calcule : ancienneté, republications, postes ouverts vs taille de l'équipe, rapidité de clôture, et si le salaire est indiqué.À noter : une estimation à partir de données publiques, pas un jugement sur l'entreprise. De vraies offres peuvent avoir un score élevé, alors prenez-le comme un indice, pas comme un fait.

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Nearfield Instruments

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51 - 200 employés

Fondée en 2016

🏭 Fabrication

💼 Conseil

🏥 Santé

💰 €147 155 003 Series C - Nearfield Instruments en 2024-07

Manufacturing • Consulting • Healthcare

Nearfield Instruments est un développeur de systèmes de microscopie à force atomique (AFM) automatisés et à haut débit pour la métrologie 3D. L'entreprise conçoit des solutions matérielles et logicielles qui offrent une résolution à l'échelle atomique et un débit du niveau de l'industrie pour relever les défis du contrôle des processus dans les industries de la nano-électronique et des semi-conducteurs haut de gamme. Sa gamme de produits et ses technologies (par exemple, l'imagerie de paroi QUADRA, le mode Lightning, AUDIRA) permettent une métrologie avancée par sonde de balayage pour les fabricants et les organisations de recherche du monde entier.

Description

• Develop and optimize optical imaging models and techniques for use in advanced metrology and inspection. • Translate scanner performance knowledge (CDU, focus, overlay, aberrations, imaging limits) into innovative process control solutions. • Apply expertise in (High-NA) EUV mask characterization, including 3D feature metrology (absorber CD, sidewall angle, height) and resist behavior under EUV and out-of-band light exposure. • Advance methods such as scatterometry and computational imaging to push the limits of in-line process control. • Collaborate with system architects, AFM/imaging experts, and software engineers to integrate imaging innovations into our commercial systems. • Work with leading global semiconductor fabs to validate and deploy solutions in high-volume manufacturing environments.

🎯 Exigences

• PhD or MSc in Physics, Optical Engineering, Electrical Engineering, or related field. • Deep expertise in optical imaging, EUV lithography, and scanner performance optimization. • Proven experience in EUV mask, scatterometry, and resist characterization. • Ability to bridge lithography knowledge with metrology and process control applications. • 5+ years of industry or advanced academic research experience in semiconductor lithography, optical metrology, or related domains. • Strong analytical and problem-solving skills, with the ability to work across disciplines in a fast-paced R&D environment.

🏖️ Avantages

• Competitive salary • 30 Holidays • Pension plan • Holiday allowance • Innovation with passion • 43+ Nationalities • Growing together • Travel the world