
51 - 200 Mitarbeiter
GegrĂĽndet 2016
🏠Fertigung
đź’Ľ Beratung
🏥 Gesundheitswesen
💰 €147.155.003 Series C - Nearfield Instruments im 2024-07
Manufacturing • Consulting • Healthcare
Nearfield Instruments ist ein Entwickler von automatisierten, hochdurchsatzfähigen Rasterkraftmikroskopie-Systemen (AFM) für die 3D-Messtechnik. Das Unternehmen entwickelt Hardware- und Softwarelösungen, die atomare Auflösung und branchentypischen Durchsatz bieten, um Herausforderungen in der Prozesskontrolle in der High-End-Nanoelektronik und Halbleiterindustrie zu bewältigen. Seine Produktsuite und Technologien (z. B. QUADRA Seitenwandabbildung, Lightning-Modus, AUDIRA) ermöglichen fortschrittliche Rastersondenmesstechnik für Hersteller und Forschungsorganisationen weltweit.
đź•’ vor 6 Monaten
🇳🇱 Niederlande – Remote
⏰ Vollzeit
đźź Senior
đź’» Applikationsingenieur
đź‘» Geisterscore 53%
🗣️🇺🇸🇬🇧 Englisch erforderlich
Verbessern Sie Ihre Chancen auf ein Vorstellungsgespräch, indem Sie Ihre Lebenslauf-Bewertung vor der Bewerbung überprüfen.

51 - 200 Mitarbeiter
GegrĂĽndet 2016
🏠Fertigung
đź’Ľ Beratung
🏥 Gesundheitswesen
💰 €147.155.003 Series C - Nearfield Instruments im 2024-07
Manufacturing • Consulting • Healthcare
Nearfield Instruments ist ein Entwickler von automatisierten, hochdurchsatzfähigen Rasterkraftmikroskopie-Systemen (AFM) für die 3D-Messtechnik. Das Unternehmen entwickelt Hardware- und Softwarelösungen, die atomare Auflösung und branchentypischen Durchsatz bieten, um Herausforderungen in der Prozesskontrolle in der High-End-Nanoelektronik und Halbleiterindustrie zu bewältigen. Seine Produktsuite und Technologien (z. B. QUADRA Seitenwandabbildung, Lightning-Modus, AUDIRA) ermöglichen fortschrittliche Rastersondenmesstechnik für Hersteller und Forschungsorganisationen weltweit.
• Develop and optimize optical imaging models and techniques for use in advanced metrology and inspection. • Translate scanner performance knowledge (CDU, focus, overlay, aberrations, imaging limits) into innovative process control solutions. • Apply expertise in (High-NA) EUV mask characterization, including 3D feature metrology (absorber CD, sidewall angle, height) and resist behavior under EUV and out-of-band light exposure. • Advance methods such as scatterometry and computational imaging to push the limits of in-line process control. • Collaborate with system architects, AFM/imaging experts, and software engineers to integrate imaging innovations into our commercial systems. • Work with leading global semiconductor fabs to validate and deploy solutions in high-volume manufacturing environments.
• PhD or MSc in Physics, Optical Engineering, Electrical Engineering, or related field. • Deep expertise in optical imaging, EUV lithography, and scanner performance optimization. • Proven experience in EUV mask, scatterometry, and resist characterization. • Ability to bridge lithography knowledge with metrology and process control applications. • 5+ years of industry or advanced academic research experience in semiconductor lithography, optical metrology, or related domains. • Strong analytical and problem-solving skills, with the ability to work across disciplines in a fast-paced R&D environment.
• Competitive salary • 30 Holidays • Pension plan • Holiday allowance • Innovation with passion • 43+ Nationalities • Growing together • Travel the world
Jetzt Bewerben